鼎龙股份（300054）10月9日晚间公告，公司控股子公司湖北鼎汇微电子材料有限公司CMP抛光垫产品销售持续保持快速增长态势，并于2024年9月首次实现抛光垫单月销量破...
1、CMP抛光垫是实现平坦化抛光的核心要件之一根据观研报告网发布的《中国CMP抛光垫行业发展趋势分析与未来投资预测报告（2024-2031年）》显示，在晶圆进行化学机械...
在半导体制造这个高度精密且复杂的领域中，CMP（化学机械抛光）技术宛如一颗隐匿于幕后的璀璨明珠，虽不被大众所熟知，却在芯片制造的进程中扮演着不可或缺的关键角色。今天，就...
2024年8月3日早上8点18分，浙江博来纳润电子材料有限公司位于衢州智造新城高新片区的107亩二期项目生产基地正式破土开工建设。项目建成后，再加上已经运营的一期项目产...
集成电路是现代化产业体系的核心枢纽，半导体材料作为集成电路产业的基石，在集成电路制造技术不断升级和产业的持续创新...
化学机械抛光（CMP）是一种超精密的表面加工技术，其通过化学腐蚀和机械磨削的双重耦合作用，来实现工件表面纳米级的局部或全局平坦化。在CMP过程中，磨料作为机械作用和化学...
根据SEMI数据，全球CMP材料成本占比中，抛光液用量最大，其中抛光液占比49%，抛光垫占比33%，合计占比82%，钻石碟占比9%，清洗液占比5%。抛光液是影响化学机械...
鼎龙股份披露投资者关系活动记录表显示，研磨粒子是CMP抛光液的核心原材料，对抛光液产品品质有较大影响，同时在抛光液的材料成本中占比较高。公司实现了研磨粒子的自主制备，有...
近日，多家企业已披露2024年半年度业绩预告，其中鼎龙股份业绩亮眼。公司预计2024年半年度净利润为2.01亿元—2.21亿元，同比增长110%—130%。公告称，受国...
1988年，美国商用机器公司（IBM）最先将CMP工艺应用于4MDRAM器件的制造。由于介电质、金属材料等通过化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）工艺沉积在硅...
抛光液中磨料的作用主要是在晶圆和抛光垫的界面之间进行机械研磨，以确保CMP过程中的高材料去除率。同时，磨料也是影响抛光液稳定性的重要因素之一。众多磨料中，SiO2磨料因...
半导体材料市场信息的咨询公司TECHCET预计2024年半导体CMP耗材将增长6%。金属（Co、Mo、Ru）的CMP耗材呈现出迄今为止最大的增长率，在未来5年内增长94...
在我们的社群有问到“减薄工艺与CMP”方面的问题。表面去看，CMP也有减薄的作用，但其实不太一样，另外还有一个磨削研磨的工艺，可能也会有所误解。下面我们放在一起来聊一聊...
金太阳12月27日在互动平台表示，公司参股子公司东莞领航电子新材料有限公司主要产品包括了IC、硅晶圆、碳化硅用半导体抛光液，3C消费电子用精密抛光液和清洗液........
安特百特年产25000吨芯片CMP研磨液原料项目是由安集微电子科技（上海）股份有限公司与山东百特新材料有限公司...
化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技术是超大规模集成电路制造工艺中的关键技术之一，能实现集成电路（IC）制造中晶圆表面全局平...
3月28日，中国超硬材料网市场总监刘小雨、市场经理高峰一行走...
公元1278年，此时的南宋就如零丁洋里的一片到处漏水的孤舟，...
2023年9月20日，时隔四年，期待已久的第六届磨料磨具磨削展览会在郑州国际会展中心隆重开幕。本次展览会由中国机械工业集团有限公司、国机精工股份有限公司、中国机械国际合作股份有限公司联合主办。旨在推动中国磨料磨具行业的快速发展，加强国内外企业的交流与合作。
1963年，我国成功研制出第一颗人造金刚石，经过几代人的拼搏奋斗，实现了从无到有、从小到大、从弱到强的华丽蝶变。人造金刚石及其制品在我国航空航天、国防军工、机床机械等领域发挥着愈发重要的作用。不仅如此，随着金刚石技术的选代，金刚石民用领域—培育钻石迎来了自己的大爆发，中国占据了世界培育钻石产量的80%以上，近几年在国际上产生了巨大影响力。
市场部电话：+86-0371-67681070 刘小雨：13837111415 客服电话：+86-0371-67667020 传真：+86-0371-67651390 支付宝：yuanfaxinxi@163.com
市场部QQ：253516969 客服、友情链接QQ：1248693466
QQ交流群：39904292 工作时间：周一到周五 8：30 —17：30
Copyright © 2020 abrasives.org.cn 增值电信业务经营许可证：豫B2-20202116 ICP备案:豫B2-20100036-3
豫公网安备41010202002334号
手机资讯
官方微信
