CMP全称为ChemicalMechanicalPolishing，即化学机械抛光，是机械削磨和化学腐蚀的组合技术，借助超微离子研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用在被研磨的...
据台湾《经济日报》援引日经亚洲今日报道，日本昭和电工将投资1.5亿美元（200亿日元）扩建其日本及中国台湾工厂的半导体CMP抛光液产能，产能总增幅约为20%，新产能预计...
致力于解决关键大赛道领域中各类核心进口替代类创新材料的“卡脖子”问题，鼎龙股份(300054.SZ)再度加码研发...
在晶圆制造材料中，CMP抛光材料占据了7%的市场。根据不同工艺制程和技术节点的要求，每一片晶圆在生产过程中都会经历几道甚至几十道的CMP抛光工艺步骤。从0.35μm技术...
10月10日，凯盛科技（600552.SH）发布公告表示，公司控股子公司安徽中创拟投资8481万元在中创公司现有厂区内建设年产3500吨CMP(抛光研磨材料）项目生产线...
12月8日上午，苏州观胜半导体科技有限公司CMP制程半导体研磨垫项目开业典礼在张家港保税区隆重举行，标志着区镇在半导体核心材料产业园项目建设上取得了实质性突破。市委常委...
申请号:201610247000.0申请日:2016.04.19国家/省市:中国江苏(32)公开号:107304331A公开日:2017.10.31主分类号:C09G1...
赢创和巴斯夫同意合作发展二氧化铈研磨液来制造计算机芯片。这项合作计划将运用巴斯夫的化学专长、全球营销和分销能力，以及赢创在纳米材料上的领先地位。研发出的研磨液预计将在2...
3月28日，中国超硬材料网市场总监刘小雨、市场经理高峰一行走...
公元1278年，此时的南宋就如零丁洋里的一片到处漏水的孤舟，...
2023年9月20日，时隔四年，期待已久的第六届磨料磨具磨削展览会在郑州国际会展中心隆重开幕。本次展览会由中国机械工业集团有限公司、国机精工股份有限公司、中国机械国际合作股份有限公司联合主办。旨在推动中国磨料磨具行业的快速发展，加强国内外企业的交流与合作。
1963年，我国成功研制出第一颗人造金刚石，经过几代人的拼搏奋斗，实现了从无到有、从小到大、从弱到强的华丽蝶变。人造金刚石及其制品在我国航空航天、国防军工、机床机械等领域发挥着愈发重要的作用。不仅如此，随着金刚石技术的选代，金刚石民用领域—培育钻石迎来了自己的大爆发，中国占据了世界培育钻石产量的80%以上，近几年在国际上产生了巨大影响力。
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