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CMP抛光液中常见的磨料材料有哪些？

1965年沃尔什和赫尔佐格提出二氧化硅溶胶和凝胶抛光的方法，自此，以二氧化硅浆料为代表的化学机械抛光（CMP）工艺就逐渐取代了机械抛光的主导地位；20世...

浙企攻破“卡脖子”技术斩获首张CMP抛光液订单

早上9时左右，敲开宁波润平电子材料有限公司董事长惠宏业的办公室时，他正接起当天的第5个电话。电话接二连三，有催订单的，也有谈业务、汇报生产进度的。“抱歉...

CMP抛光液和抛光垫市场报告：2023年，全球市场规...

集成电路是现代化产业体系的核心枢纽，半导体材料作为集成电路产业的基石，在集成电路制造技术不断升级和产业的持续创新发展中扮演着重要角色。CMP抛光材料是集...

CMP工艺中的抛光液

根据SEMI数据，全球CMP材料成本占比中，抛光液用量最大，其中抛光液占比49%，抛光垫占比33%，合计占比82%，钻石碟占比9%，清洗液占比5%。抛光...

鼎龙股份：已建成与CMP抛光液产线配套的万吨级研磨粒...

鼎龙股份披露投资者关系活动记录表显示，研磨粒子是CMP抛光液的核心原材料，对抛光液产品品质有较大影响，同时在抛光液的材料成本中占比较高。公司实现了研磨粒子的自主制备，有助于增强公司...

不同类型的硅片研磨和抛光工艺对抛光液的选择有特定的要...

鼎龙股份抛光液获千万级订单 业绩回升上半年净利预增超...

鼎龙股份（300054）(300054.SZ)再传捷报。7月8日，鼎龙股份发布的公告显示，其控股子公司武汉鼎泽新材料技术有限公司(下称“鼎泽新材料”)仙桃园区生产的多晶硅抛光液及氮...

“卡脖子”技术：国内抛光液行业如何突破？

CMP抛光液作为“卡脖子”技术之一，工艺复杂，种类繁多，根据工件的抛光需求不断磨合得到合适的抛光液配方，是目前主要的技术难题。1抛光液：缺一不可化学机械...

纳米金刚石抛光液：SiC超精抛光的“白月光”

SiC作为衬底材料，单晶SiC的表面粗糙度直接影响其在电子器元件中工作的效果与性能。为确保单晶SiC在半导体、衬底材料中的应用的稳定性，其表面粗糙度往往...

CMP抛光液中，SiO2磨料的分散稳定性很重要！

抛光液中磨料的作用主要是在晶圆和抛光垫的界面之间进行机械研磨，以确保CMP过程中的高材料去除率。同时，磨料也是影响抛光液稳定性的重要因素之一。众多磨料中...