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申请号:201610247000.0

申请日:2016.04.19

国家/省市:中国江苏(32)

公开号:107304331A

公开日:2017.10.31

主分类号:C09G 1/02(2006.01)

分类号:C09G 1/02(2006.01); B24B 1/00(2006.01)

申请人:江苏天恒纳米科技股份有限公司

发明人:仲跻和

申请人地址:江苏省南通市城东镇东海大道(东)18号

摘要： 本发明公开了一种用于存储器硬盘的CMP浆料及使用该浆料的抛光方法，包括CMP浆料组合物和研磨料，CMP浆料组合物包括含有羟基、羧基或其两者的化合物、辅助添加剂以及去离子水，研磨料为二氧化硅溶胶，其中将二氧化硅溶胶加入CMP浆料组合物中并加入去离子水稀释，直至CMP浆料体系的粘度小于10(mPa.s)，pH值在9.0‑10.0之间波动。本发明在CMP浆料体系中增加辅助添加剂，用以提高CMP浆料的研磨抛光效果，且研磨料采用碱性球形纳米粒子，其硬度小，能够解决传统CMP浆料对硬盘基片的划伤问题，且稳定性高，对设备要求低，使得该CMP浆料的抛光选择性高，可操作性强，可广泛用于存储器硬盘的抛光领域。

主权利要求

1.一种用于存储器硬盘的CMP浆料，包括CMP浆料组合物和研磨料，其特征在于：所述CMP浆料组合物包括含有羟基、羧基或其两者的化合物、辅助添加剂以及去离子水，所述研磨料为二氧化硅溶胶，其中将二氧化硅溶胶加入CMP浆料组合物中并加入去离子水稀释，直至CMP浆料体系的粘度小于10(mPa.s)，pH值在9.0-10.0之间波动。