摘要 项目介绍:随着激光器性能的不断提高,在众多的薄膜制备方法中,PLD技术的应用最为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,...
项目介绍: 随着激光器性能的不断提高,在众多的薄膜制备方法中,PLD技术的应用最为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜,甚至还用来制备一些难以合成的材料膜,如金刚石、立方氮化物膜等,并取得了很大的成功。
工作原理:
在制膜腔内,用透镜将一束强脉冲激光汇聚成一个很小的光斑,打在靶材料上,受到激光光斑照射的靶材料瞬时被气化、电离,形成一团等离子体,高速向外喷射,从而在衬底上沉积形成一层薄膜。
系统构成:
(1)、准分子激光器
(2)、PLD沉积系统