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申请号: 201711161678.8

申请日: 2017.11.21

国家/省市:中国江苏(32)

公开号: 107760209A

公开日: 2018.03.06

主分类号:C09G 1/02(2006.01)

分类号: C09G 1/02(2006.01)

申请人: 常州市好利莱光电科技有限公司

发明人: 龙仕冬; 王文新; 史玉玲

申请人地址:江苏省常州市罗溪镇空港产业园旺财路10号

摘要： 本发明涉及一种精密抛光研磨液及其制备方法，属于高精密研磨、抛光技术领域。本发明通过六亚甲基四胺在加热的水相溶液中缓慢持续地分解成甲醛与氨气，利用氨气不断与水反应产生OH﹣，从而使得溶液始终呈碱性，促使铈离子与氢氧根结合，在硅溶胶表面缓慢均匀地析出，硅溶胶表面的析出物经过高温煅烧氧化分解产生致密的CeO2层，最终壳层与核层之间产生了Si‑O‑Ce键，紧密结合在一起，利用硅溶胶良好的单分散性，不易产生分层、沉淀，且硅溶胶的生产工艺成熟、粒径可控等特点，结合氧化铈对抛光工件表面损伤较小，能有效提高被抛光工件的表面质量的性能，改善抛光磨料的分散性能和抛光性能。 

主权利要求

一种精密抛光研磨液，其特征在于，包括下述重量份原料：1～2份复合硅抛光粉，2～3份十二烷基苯磺酸钠，2～3份聚乙烯吡咯烷酮，100～150份乙醇溶液，150～200份次氯酸钠溶液。