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鼎龙股份:CMP抛光垫产品已在某主流外资逻辑厂商实现小批量供货

每经AI快讯,4月9日,鼎龙股份在互动平台表示,海外市场拓展是公司半导体材料未来业务发展的重要组成部分,相关工作目前正在按计划推进中:如CMP抛光垫产品已在某主流外资逻...

日期 2天前   

比亚迪申请抛光垫专利,能够提高可靠性以及延长使用寿命

金融界2025年4月8日消息,国家知识产权局信息显示,比亚迪股份有限公司申请一项名为“抛光垫及其制备方法、化学机械抛光设备”的专利,公开号CN119772779A,申请...

日期 2025-04-10   

汽车抛光的流程是怎样的?

先做好准备工作,把车停在通风阴凉处,避免阳光直射。用高压水枪或洗车液清洁车辆表面灰尘和污垢,待车身完全干燥,再用粘尘布去除残留细微颗粒。接着清洗整车,用去污力强的漆面清...

日期 2025-04-07   

【每日科普】激光抛光

原理:利用超短脉冲/连续激光聚焦能量,使金刚石表面局部熔化、蒸发或发生相变(如石墨化),通过材料重排或气化降低粗糙度。特点:非接触、高空间分辨率(微米级聚焦),适合三维...

日期 2025-03-26   

金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(二)

金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(二)
金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(二)
金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(二)

2热化学抛光(TCP)Grodzinski在实验中发现,把金刚石放置在600℃至1800℃的铁、镍等金属板上,金刚石的接触面会溶解到金属中,使金刚石表面变得平整,从而提...

日期 2025-03-25   

金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(一)

金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(一)
金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(一)
金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望(一)

摘要:随着半导体电子器件的集成化与小型化发展,金刚石优异的热导性、电导性成为制备半导体衬底的理想材料。为了满足半导体行业对电子器件高精度和高可靠性能的要求,需对金刚石表...

日期 2025-03-25   

东莞励治研磨申请一种阻尼布抛光垫及其制备方法专利,保证抛光层良好耐磨性减少更换频率

金融界2025年3月20日消息,国家知识产权局信息显示,东莞励治研磨科技有限公司申请一项名为“一种阻尼布抛光垫及其制备方法”的专利,公开号CN119635542A,申请...

日期 2025-03-21   

鼎龙股份:2024年CMP抛光垫销售收入约7.31亿元,同比增长约75%

金融界3月20日消息,鼎龙股份(300054)披露投资者关系活动记录表显示,公司在半导体材料业务方面持续扩展,2024年公司CMP抛光垫销售收入约7.31亿元,同比增长...

日期 2025-03-21   

金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望

金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望
金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望
金刚石半导体衬底研磨抛光技术研究现状及展望

摘要随着半导体电子器件的集成化与小型化发展,金刚石优异的热导性、电导性成为制备半导体衬底的理想材料。为了满足半导体行业对电子器件高精度和高可靠性能的要求,需对金刚石表面...

日期 2025-03-13   

禹州市明宇抛光材料有限公司被认定为高新技术企业

3月5日,高企认定官网披露对河南省认定机构2024年认定报备的高新技术企业进行第一批补充备案的公告,禹州市明宇抛光材料有限公司在列,证书编号GR202441004109...

日期 2025-03-06   

鼎龙股份:公司已建成潜江三期抛光垫扩产项目及仙桃半导体相关项目

金融界3月4日消息,有投资者在互动平台向鼎龙股份提问:你好,请问公司2024年及以前的在建工程都有什么?谢谢!公司回答表示:公司近几年加快节奏大力开展半导体材料项目的产...

日期 2025-03-06   
全球化学机械抛光金刚石圆盘修整器行业2025市场规模有望突破25亿美元

全球化学机械抛光金刚石圆盘修整器行业2025市场规模有望突破25亿美元

化学机械抛光(CMP)金刚石圆盘修整器是一种用于修整金刚石圆盘的设备,主要用于金刚石圆盘的表面修整和磨损均匀化。...

日期 2025-02-10   
从切割到抛光,棕刚玉砂如何改变玉石加工工艺?

从切割到抛光,棕刚玉砂如何改变玉石加工工艺?

棕刚玉在玉石行业中的应用主要集中在玉石的切割、雕刻、打磨和抛光等工艺中,凭借其高硬度和良好的磨削性能,为玉石加工...

日期 2025-01-21   
让固结磨料发挥更大抛光效能

让固结磨料发挥更大抛光效能

近日,国家知识产权局信息显示,南京航空航天大学取得一项名为“一种基于固结磨料的第三代半导体晶圆的电化学机械抛光的...

日期 2025-01-17   

CMP抛光液中常见的磨料材料有哪些?

CMP抛光液中常见的磨料材料有哪些?
CMP抛光液中常见的磨料材料有哪些?
CMP抛光液中常见的磨料材料有哪些?

1965年沃尔什和赫尔佐格提出二氧化硅溶胶和凝胶抛光的方法,自此,以二氧化硅浆料为代表的化学机械抛光(CMP)工艺就逐渐取代了机械抛光的主导地位;20世纪80年代中期,...

日期 2025-01-15   
全面剖析:化学机械抛光技术(CMP)的深度探索

全面剖析:化学机械抛光技术(CMP)的深度探索

在半导体制造这一高度精细且复杂的领域里,CMP(化学机械抛光)技术就像是一颗默默闪耀在后台的璀璨宝石,尽管不为普...

日期 2024-12-31   
广东中科半导体微纳制造技术研究院化学机械抛光机采购项目招标公告

广东中科半导体微纳制造技术研究院化学机械抛光机采购项目招标公告

项目概况广东中科半导体微纳制造技术研究院化学机械抛光机采购项目招标项目的潜在投标人应在广东省政府采购网https...

日期 2024-12-06   
浙企攻破“卡脖子”技术斩获首张CMP抛光液订单

浙企攻破“卡脖子”技术斩获首张CMP抛光液订单

早上9时左右,敲开宁波润平电子材料有限公司董事长惠宏业的办公室时,他正接起当天的第5个电话。电话接二连三,有催订...

日期 2024-12-03   

SiC和GaN等半导体衬底的精密研磨抛光材料简要介绍

SiC和GaN等半导体衬底的精密研磨抛光材料简要介绍
SiC和GaN等半导体衬底的精密研磨抛光材料简要介绍
SiC和GaN等半导体衬底的精密研磨抛光材料简要介绍

通过改进先进半导体衬底的研磨抛光工艺以降低成本3M精密电子研磨材料用于研磨半导体、电子器件和功率半导体的基板,如SiC晶片(碳化硅)、GaN(氮化镓)和Ga2O3晶片(...

日期 2024-11-22   

东南大学微纳系统国际创新中心12寸化学机械抛光机采购项目招标公告(第二次)

项目概况东南大学微纳系统国际创新中心12寸化学机械抛光机采购招标项目的潜在投标人应在微信公众号“苏美达达天下”获取招标文件,并于2024年12月10日09点30分(北京...

日期 2024-11-20   
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第六届磨料磨具磨削展览会暨2023金刚石产业大会

第六届磨料磨具磨削展览会暨2023金刚石...

2023年9月20日,时隔四年,期待已久的第六届磨料磨具磨削展览会在郑州国际会展中心隆重开幕。本次展览会由中国机械工业集团有限公司、国机精工股份有限公司、中国机械国际合作股份有限公司联合主办。旨在推动中国磨料磨具行业的快速发展,加强国内外企业的交流与合作。

中国人造金刚石诞生60周年

中国人造金刚石诞生60周年

1963年,我国成功研制出第一颗人造金刚石,经过几代人的拼搏奋斗,实现了从无到有、从小到大、从弱到强的华丽蝶变。人造金刚石及其制品在我国航空航天、国防军工、机床机械等领域发挥着愈发重要的作用。不仅如此,随着金刚石技术的选代,金刚石民用领域—培育钻石迎来了自己的大爆发,中国占据了世界培育钻石产量的80%以上,近几年在国际上产生了巨大影响力。