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　　比利时微电子研究中心（IMEC）是世界上纳米微电子和纳米技术领先研究单位之一,其研究方向集中在下一代芯片、系统和智能环境技术上。在半导体技术方面，IMEC拥有先进CMOS技术、 III-V和有机半导体平台。根据IMEC所确定的发展战略,2003-2005年研发45纳米CMOS技术,2005-2007年研发32纳米微电子技术。IMEC的纳米研究包括纳米CMOS和纳米电子新装置、从微电子机械系统向纳米电子机械系统过渡、开发纳米材料和纳米成型技术、使用和改善纳米扫描探头、界面功能确定、自行组装、分子内部连接和分子电子、研究生物标本与固体装置之间界面的化学和电子特性、自装分子层信号传输等。目前IMEC正在研究把电子旋转技术与硅电子结合起来。
　　
　　193纳米浸入光刻技术是实现45纳米以下COMS关键技术。浸入光刻是指在曝光镜头和硅片之间充满水而不是空气。对于193纳米光刻来说,水是最佳液体。但浸入光刻技术仍有很多不确定性,如对置于水中的硅片和光刻性能带来的影响,磨料中水吸附如何进行CD控制、模样外形控制等。
　　
　　在半导体工业中使用浸入光刻技术已引起广泛注意,人们预测193纳米浸入光刻技术将取代157纳米光刻技术成为45纳米以下半导体生产新一代光刻技术。从1998年开始，IMEC与日本东京电子有限公司（TEL）合作开发193纳米光刻技术。
　　
　　IMEC为加速45纳米以下微电子技术的开发, 与世界10大设备供应商确定协议，协议的签署使得IMEC能在最先进的设备条件下进行研究与开发。在193纳米浸入光刻技术方面,IMEC与世界上30个芯片制造商、工具供应商和软件供应商等组成合了作联盟。该联盟中IMEC的合作伙伴ASML公司的 TWINSCANtm XT:1250i是目前世界上浸入工具(0.85)含量最高装置。IMEC 将使用该工具进行曝光, 印刷新密度为7ONM,聚焦深度为0.7μM。双方希望通过合作加速光刻技术从干法向湿法的过渡,早日实现193浸入光刻技术的工业化应用。