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　　金刚石具有优异的物理、化学性质，在所有物质中具有最高的硬度，室温下有最高的热导率，极低的热膨胀系数，低摩擦系数，良好的化学稳定性，大的禁带宽度(5.5Ev)，最高的声传播速度，较高的半导体掺杂性以及从远红外光区到紫外光区的光学透过性，使得其在机加工、微电子、光学等许多领域有着广阔的应用前景。然而天然金刚石数量极少，高温高压合成的金刚石由于受粒度限制且价格昂贵，使金刚石的优异性能不能充分利用。1982年，Matsrmto等人使用化学气相沉积法（CVD）制备出了金刚石膜，使得金刚石的优异性能得以充分发挥，从而在全世界范围内掀起了CVD金刚石膜研究热潮。我国目前也加大了对金刚石膜的研究投资力度，并有多家研究单位投入了大量的人力进行此项研究工作，根据国内技术发展现状和国内技术经济发展特点，金刚石薄膜涂层工具、金刚石热沉基片、场发射显示器件、声表面波器件及纳米金刚石膜的应用将有望陆续进入市场。
　　摘自《金刚石与磨料磨具工程》2004.3