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       申请号: 201310695413.1
       申请日: 2013.12.17
       国家/省市: 中国北京(11)
       公开号: 104711504A
       公开日: 2015.06.17
       主分类号: C23C 4/10(2006.01)
       分类号: C23C 4/10(2006.01); C23C 14/48(2006.01); C23C 14/18(2006.01)
       申请人: 中国科学院微电子研究所; 北京美桥电子设备有限公司
       发明人: 王文东; 夏洋; 李楠
       代理人: 刘杰
       代理机构: 11302
       申请人地址: 北京市朝阳区北土城西路3号

       摘要： 本发明涉及半导体刻蚀机内衬及石英表面防蚀处理技术领域，具体涉及一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法。所述制备方法，包括如下步骤：步骤（1），选择碳化硼粉末，并将碳化硼粉末送入等离子喷涂设备；步骤（2），对待喷涂的石英基材的表面进行Ti离子注入处理，然后使用丙酮和无水乙醇对石英基材的表面进行清洗；步骤（3），通过等离子喷涂设备在石英基材的表面进行等离子喷涂，制备出碳化硼涂层。本发明在石英基材表面进行Ti离子注入处理，增大了石英基材表面的粗糙度，从而可以提高碳化硼涂层与石英基材之间的界面结合强度。

       主权利要求 1.一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤（1），选择碳化硼粉末，并将所述碳化硼粉末送入等离子喷涂设备；步骤（2），对待喷涂的石英基材的表面进行Ti离子注入处理，然后使用丙酮和无水乙醇对所述石英基材的表面进行清洗；步骤（3），通过所述等离子喷涂设备在所述石英基材的表面进行等离子喷涂，制备出碳化硼涂层。