摘要 硅晶化系统以及真空和高温系统制造商PVATePlaAG宣布推出用于制造碳化硅(SiC)晶体的高温系统SICube。SiCube中所生产的晶体主要面向高科技市场中的客户。典型的应用领...
硅晶化系统以及真空和高温系统制造商 PVA TePla AG 宣布推出用于制造碳化硅 (SiC) 晶体的高温系统 SICube。SiCube 中所生产的晶体主要面向高科技市场中的客户。典型的应用领域包括高性能的电子产品(例如混合动力及电动汽车、空调系统和光伏)和光电产品,碳化硅的一些特定属性(如高导热性)可为这些产品增色不少。
PVA TePla 提供两种不同的系统:HTCVD(高温化学气相蒸镀)和 HTCVT(高温化学气相输运)。这两种系统都可生成直径长达 6 英寸(150 毫米)的晶体。迄今为止,欧洲和亚洲两家大型制造商都已选择采用此系统。SICube 是一种紧凑型晶体生长系统。该系统拥有直观的用户界面和极高的工艺精度,采用高品质的材料和成分,可为客户带来众多益处。