磁性阴极溅射比普通阴极溅射具有以下优点_技术_磨料磨具网

磁性阴极溅射比普通阴极溅射具有以下优点

关键词磁控溅射|2011-06-28 16:03:16|基础知识|来源中国磨料磨具网

摘要 1．成膜速率提高（电离率高，放电电流大）。2．基体温升降低。3．磁控溅射的空间局限于靶与基体之间，粒子到达基体的准确度高，不需要的部位没有。因此真空容器容易清洗，操作方便。4．膜层...

　　1．成膜速率提高（电离率高，放电电流大）。
　　2．基体温升降低。
　　3．磁控溅射的空间局限于靶与基体之间，粒子到达基体的准确度高，不需要的部位没有。因此真空容器容易清洗，操作方便。
　　4．膜层致密，并且与基体结合力强。这是因为磁控溅射产生的靶原子的能量高。

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