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一种滚筒抛光机上使用的MC尼龙抛光磨粒及其制备方法

关键词 抛光机 , 磨粒 , MC尼龙|2014-08-06 09:46:34|行业专利|来源 中国磨料磨具网
摘要 申请号:201210390909.3申请日:2012-10-16摘要:一种滚筒抛光机上使用的MC尼龙抛光磨粒及其制备方法,其特征在于:所述MC尼龙抛光磨粒
       申请号:201210390909.3     申请日:2012-10-16

       摘要:一种滚筒抛光机上使用的MC尼龙抛光磨粒及其制备方法,其特征在于:所述MC尼龙抛光磨粒的组成成分及质量百分比为:己内酰胺单体60%~90%,悬浮、增稠剂0.5%~5%,磨料5%~20%,氧化铈0%~10%。本发明的MC尼龙抛光磨粒具有优良的耐磨性和抛光效率,同时被抛光工件表面碎屑与抛光磨粒分离容易,可用于金属、木材、石材、玻璃、陶瓷、塑料等制品表面进行的抛光处理。

       申请人: 河南工业大学     广东创汇实业有限公司
       地址: 450001 河南省郑州市郑州高新技术产业开发区莲花街
       发明(设计)人: 张琳琪   杨家联   彭进   夏绍灵   邹文俊   郑红娟
       主分类号: C09G1/02(2006.01)I
       分类号: C09G1/02(2006.01)I C09K3/14(2006.01)I C08G69/18(2006.01)I
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