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中美碳化硅科研合作签约

关键词 碳化硅 , 半导体|2014-07-29 09:44:06|来源 中国科技网
摘要 SiC(碳化硅)领域的中国“领头羊”与美国重量级专家联姻会产生何种化学反应?7月28日,中国天岳晶体材料公司与美国纽约州立大学签约,约定在“代表...
       SiC(碳化硅)领域的中国“领头羊”与美国重量级专家联姻会产生何种化学反应?7月28日,中国天岳晶体材料公司与美国纽约州立大学签约,约定在“代表着世界21世纪技术发展方向”的宽禁带化合物半导体领域合作,从而为“中国经济增长提供更优质的选择”。双方并未透露合作的具体协议。
       据了解,以SiC为代表的宽紧带化合物半导体是当今世界最先进的第三代半导体,用它制作的功率和照明设备可节能50%以上,同时在新能源汽车、高铁、工业领域具有广泛应用。美日欧等发达国家和地区都将其列入清洁能源的国家战略。
       据悉,天岳公司是世界上少数SiC半导体材料生产商,其技术水平达到世界前列;纽约州立大学是目前世界上规模最大的大学,在宽禁带化合物半导体领域的研究居于世界前列,其长期与美国各大SiC公司合作的积累可为双方联姻提供经验。
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