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官方微信摘要 1．真空（条件）真空蒸镀是以真空技术为基础的一种表面处理方法，必须在一定的真空条件下进行。2．材料（对象）成膜材料一般是金属或合金。膜的基体（镀件）既可以是金属，也可以是非金属。基...
1．真空（条件） 真空蒸镀是以真空技术为基础的一种表面处理方法，必须在一定的真空条件下进行。 2．材料（对象） 成膜材料一般是金属或合金。膜的基体（镀件）既可以是金属，也可以是非金属。基体形状可以是片状，粉粒状等各种形状。
3．蒸发（手段） 成膜材料加热蒸发，使之汽化。汽化粒子可以是分子，原子，原子团。加热方式有多种，例如电阻加热法，高频感应法，电子束法（E形电子枪法），离子束法，激光束法等。
4．成膜（目的） 蒸发汽化的粒子在基体表面上镀覆（附着，粘附，凝聚，凝固，沉积，冷凝，凝结），形成符合要求的镀层（薄膜）。
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