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一种低电阻率碳化硅陶瓷及其制备方法

关键词 碳化硅 , 陶瓷|2015-04-25 09:14:12|行业专利|来源 中国磨料磨具网
摘要 申请号:201410743574.8申请日:2014.12.08国家/省市:中国上海(31)
       申请号: 201410743574.8
       申请日: 2014.12.08
       国家/省市: 中国上海(31)
       公开号: 104478438A
       公开日: 2015.04.01
       主分类号: C04B 35/565(2006.01)
       分类号: C04B 35/565(2006.01); C04B 35/622(2006.01)
       申请人: 中国科学院上海硅酸盐研究所

       发明人: 陈健; 黄政仁; 刘学建; 陈忠明; 姚秀敏; 袁明; 刘岩; 闫永杰; 朱云洲; 刘桂玲; 张辉
       代理人: 曹芳玲 郑优丽
       代理机构: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙)(31261)
       申请人地址: 上海市长宁区定西路1295号

       摘要: 本发明涉及一种低电阻率碳化硅陶瓷及其制备方法,所述低电阻率碳化硅陶瓷的组成包括SiC、AlN、B4C、C,其中,AlN的含量1—5wt%,B4C的含量≤1wt%,C的含量为0—3wt%,其余为SiC。

       主权利要求 1.一种低电阻率碳化硅陶瓷,其特征在于,所述低电阻率碳化硅陶瓷的组成包括SiC、AlN、B4C、C,其中,AlN的含量1—5wt%,B4C的含量≤1wt%,C的含量为0—3wt%,其余为SiC。
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