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半导体抛光垫打磨创新“精度”

关键词 抛光垫|2024-07-09 10:00:43|来源 中国知识产权报
摘要 科技创新带动信息时代到来,半导体、电子信息等高科技产业迅速崛起,相关制造企业搭乘行业发展的“快车”,市场规模逐步扩大。作为半导体产品制备过程中必不可少的工具,聚氨酯抛光垫在芯片制造...

       科技创新带动信息时代到来,半导体、电子信息等高科技产业迅速崛起,相关制造企业搭乘行业发展的“快车”,市场规模逐步扩大。作为半导体产品制备过程中必不可少的工具,聚氨酯抛光垫在芯片制造、封装测试等环节中发挥着重要作用,市场需求呈现出稳步增长的趋势。在5G、物联网、人工智能等新兴技术的激发下,半导体抛光垫相关技术的研发攻关再次掀起热潮。

       前不久,国家知识产权局公布2023年度专利复审无效十大案件,请求人王某某与专利权人罗门哈斯电子材料 CMP控股股份有限公司(下称罗门哈斯公司)、陶氏环球技术有限公司(下称陶氏公司)之间的专利权无效宣告请求案入选。该案中,国家知识产权局专利局复审和无效审理部(下称复审和无效审理部)作出无效宣告请求审查决定,维持罗门哈斯公司和陶氏公司的名称为“聚氨酯抛光垫”(专利号:ZL201410448504.X,下称涉案专利)发明专利权有效。涉案专利权人为相关技术领域知名公司,加之该专利技术具有广阔的市场应用前景,因此,上述审查决定的作出引发了业界的广泛关注。

       产品市场前景广阔

       在芯片制造过程中,半导体硅片经过刻蚀、离子注入等工艺过程,其表面会变得凹凸不平,并产生多余的表面物。为降低硅片表面的粗糙度和不平整度,去除表面多余物质,有效进行下一道加工程序,必须使用抛光垫对半导体硅片进行抛光处理。不同于普通的抛光技术,对半导体硅片的抛光需要采用化学机械抛光技术(CMP),通过化学腐蚀与机械磨削的结合对硅片表面进行平坦化处理。随着集成电路特征尺寸的减小,制备过程中由抛光所产生的缺陷进一步放大,这也引起了相关研发团队的重视。

       涉案专利正是专利权人为了解决抛光垫材料所致硅片表面存在缺陷的研究成果。2014年9月4日,罗门哈斯公司和陶氏公司就涉案专利向国家知识产权局提交了专利申请,后获得授权。

       “从 CMP抛光全球市场来看,该行业长期被国外企业所垄断,市场集中度较高。”江苏瑞途律师事务所专利部总监韦超峰在接受中国知识产权报记者采访时介绍,与国外相比,我国 CMP抛光行业起步较晚。但近年来,伴随着我国半导体产业的快速发展以及相关政策的推动,我国 CMP抛光行业发展加快,接连涌现出了一批创新主体,如鼎龙股份、中芯国际等,这些企业纷纷加大研发力度、进行技术创新,积极同国外企业进行市场竞争。

       公正审理同等保护

       2023年4月20日,请求人王某某就涉案专利向复审和无效审理部提起专利权无效宣告请求。在受理该案后,复审和无效审理部随即组建了由多名资深审查员组成的合议组对该案进行审查,并于2023年8月2日举行口头审理。

       据了解,王某某提起专利权无效宣告请求的主要理由为涉案专利的权利要求不符合专利法第二十二条第三款。具言之,涉案专利的权利要求1与最接近的现有技术相比,区别仅在于固化剂的种类不同,权利要求中关于物理性能参数对权利要求的保护范围无限定作用。在此基础上,请求人还提交多份证据欲证明使用该类固化剂给出了技术教导,故涉案专利不具备创造性。

       对此,专利权人罗门哈斯公司和陶氏公司辩称,涉案专利中的固化剂特征与其它配方组分特征为同一技术手段,在创造性判断时应作为一个整体考量,涉案专利正是因为配方组分的上述组合特征同时产生了性能改善的组合效果,而请求人提交的证据均未就此给出技术启示的情况下,涉案专利具备创造性。

       该案主审员许艳在接受本报记者采访时介绍,对于与化学、材料学科相融合的机械产品,由于其权利要求的表征不再局限于部件组成及具体结构,方法制备特征和性能参数特征也融入其中,因此如何准确理解这类产品权利要求是审查结论正确与否的前提和关键。

       “该案中,合议组站位本领域技术人员,基于说明书的客观记载,在对权利要求多个技术特征是否可视为同一技术手段以及性能参数特征对权利要求保护范围的影响作出了认定。虽然涉案专利声称其同时产生了多个技术效果,但是由于配方组分对产品的实际影响的预见性低,因此通常需要实验数据的支持。”许艳介绍,基于此,合议组认为涉案专利相较于最接近的现有技术实际的技术贡献在于采用特定的固化剂提高抛光垫的热稳定性和均一性,而现有技术均未就此给出技术启示,涉案专利具备创造性。

       2023年12月20日,复审和无效审理部作出第564483号无效宣告请求审查决定,维持涉案专利权有效。

       合理认定技术贡献

       新技术新产业新业态的发展离不开基础材料的支撑,芯片作为核心部件,其重要性不言而喻。作为芯片研制生产必不可少的工具,聚氨酯抛光垫的市场前景十分广阔。该无效宣告请求审查决定在鼓励创新的同时,为专利权划定了与其技术贡献相匹配的保护范围,引发业界深入思考。

       厦门市知识产权协会专家库专家、厦门纳益维知专利代理事务所总经理陈菊珍在接受本报记者采访时表示,“参数限定”专利具有容易认定侵权却难以宣告无效的特性,因此包含参数特征成为了专利申请中一种典型的产品表征形式。该案对判断参数特征对保护范围的实际限定作用、是否在说明书中充分公开、如何在创造性评判中与其他特征作为整体一并考量等方面给出了指引。

       “该无效宣告请求审查决定的作出促使专利代理师反思在专利申请文件撰写过程中引入参数特征的必要性及与说明书的关联性。同时,引导被控侵权人知晓参数特征限定的产品权利要求的解释规则,既充分尊重权利人的技术贡献,又维护了社会公众的利益。”陈菊珍表示。

       韦超峰建议,随着材料科学和技术水平的不断提高,新型聚氨酯耐磨垫的创新开发及制备工艺的优化将成为未来行业研究的热点。对于具有较强知识产权保护意识的企业来说,即便是针对一些微小的技术改进,也会从新的性能参数角度进行保护,这些性能参数往往是现有技术尚未公开的。因此,相关从业者在研发过程中,要注重提升知识产权保护意识,可以借鉴性能参数特征知识产权保护模式,提升自身综合竞争力。

       【典型意义】

       不同于以宏观结构呈现的传统机械产品,该案的聚氨酯抛光垫属于一种化学机械学科交叉的创新成果,此类产品的权利要求通常包括产品制备特征和性能参数特征的限定。在该案中,合议组根据实验数据认定,权利要求中的组分、含量与物理性能参数等多个特征不存在相互作用关系,无需整体考量。然而本专利解决了抛光垫的均一性及热稳定性的技术问题,而现有技术均未就此给出相应的技术启示,因此具备创造性。该案审理遵循专利法“公开换保护”的基本原则,在鼓励创新的同时,为专利权划定了与其技术贡献相匹配的保护范围。

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